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白光干涉儀測量用于哪些領域?

更新時間:2023-09-01  |  點擊率:1819
  白光干涉儀是用于對各種精密器件表面進行納米級測量的儀器,它是以白光干涉技術為原理,光源發出的光經過擴束準直后經分光棱鏡后分成兩束,一束經被測表面反射回來,另外一束光經參考鏡反射,兩束反射光最終匯聚并發生干涉,顯微鏡將被測表面的形貌特征轉化為干涉條紋信號,通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌。白光干涉儀專用于非接觸式快速測量,精密零部件之重點部位的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸,其測量精度可以達到納米級!
  目前,在3D測量領域,白光干涉儀是精度最高的測量儀器之一。白光干涉儀比較適合檢測的樣品按領域分為消費電子類、半導體封裝、超精密加工(機械、光學)、微納材料這四個大的領域;其中消費電子類即智能電子產品的玻璃外殼、內嵌組裝要求比較高的超光滑薄片(如home鍵里的薄片、手機攝像頭里面的薄片);
  半導體行業的整個產業鏈上的工藝流程如下:硅棒經過一系列切削、打磨物理化學方法后獲得比較粗糙的硅片,硅片經過單面拋光后即成為可進行蝕刻工藝(將IC芯片蝕刻到拋光面)的硅片,上述兩個步驟獲得的是半導體領域里原材料硅片,屬于來料部分,來料部分對拋光后的硅片拋光面粗糙度有要求,一般要求在1nm及以下,但由于制作這類硅片屬于行業上游原材料企業,在拋光后硅片表面粗糙度不一定會做強制的檢測要求,目前了解到該類型企業檢測比較少。
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